交易价格： 面议
类型： 发明专利
技术成熟度： 可以量产
专利所属地：中国
专利号：CN201310380560.X
交易方式： 完全转让 许可转让 技术入股
联系人： 天津科技大学
所在地：天津天津市
化学气相沉积技术是近年来兴起的一种先进薄膜制备技术，采用CVD法制备的薄膜结构致密、薄膜与基板的结合力强且薄膜沉积速率高，非常适合各类薄膜材料的工业化生产。本团队研制开发了具有自主知识产权的“智能喷液雾化-多元共析化学气相沉积设备”及相应的“多类功能及结构薄膜制备技术”，适用于在一维（1D)、二维（2D)及三维（3D)大尺寸、异形工件或基体上使用化学气相沉积法制备各种功能/结构薄膜材料，能赋予工件更多的功能及更为优越的性能，扩大工件的应用范围，能为机械、微电子、光学、汽车、模具、电学及*等领域提供需要的多种新型膜材料，适用范围广，安全性能高。其设备的先进性有：1.搭载的“喷液雾化-多元共析液体原料供给系统”解决了以往CVD设备中固体原料蒸发罐供给系统在工业应用中无法长时间提供精确、持续、稳定的原料蒸气难题。能精准地控制多元化合物原料的各元素化学计量比，特别是能精准控制多元薄膜材料的化学成分，并能长时间提供精确、持续、稳定的原料蒸气，彻底解决原料浪费现象，是工业化应用必备的条件。2.搭载的“智能真空度控制系统”，能精准控制本设备腔体内的压强，并能将腔体真空度维持在100-1000 Pa之间的任意设定值，能保证工业生产时薄膜质量的精准控制。3.搭载的“智能操控系统”能实现能用电脑精准控制薄膜沉积过程中的每个动作，实现了全自动智能化操作，杜绝了人为操作出现的失误的情况，解决了样品可重复性差这一难题。 本技术已达到工业化使用标准，适用于化学气相沉积法制备多类功能/结构薄 膜，适用范围广，市场需求大、安全性能高。特别是研制的700mm×700mm×700mm 类大尺寸碳化硅镀膜设备，已在相关的多家科研院所和高新技术企业成功推广应用。 此类型大尺寸碳化硅镀膜设备在我国尚无资料报道，本成果打破发达国家的技术垄 断，填补了我国在该领域的技术空白，经济效益显著。
Copyright © 2018 宁夏回族自治区生产力促进中心 版权所有 宁ICP备11000235号-3 宁公网安备 64010402000776号
网站访问量： 网站在线人数：0 技术支持：科易网 
APP下载
微信公众号
