交易价格： 面议
类型： 发明专利
技术成熟度： 正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN202010804585.8
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本发明提供一种无模板激光纳米原位图形化方法及设备,包括步骤为：S1建立激光作用、衬底趋近机构和激光对准机构系统参数；S2丝网刮膜,在丝网板上形成高质量均匀纳米溶液薄膜；S3衬底趋近,精确调节衬底工作台高度,控制丝网板和衬底材料间距；S4激光定位,在衬底所需图形化位置处同时按所写图形生成激光作用路线；S5固化,经衬底工作台加热固化完成图形化过程。本发明的有益效果：工艺流程简单,易于操作,所适用材料和衬底范围广；免除掩膜或模具制备过程、压缩产品周期,提升了加工精度降低工艺成本；在新品的快速开发、多品种小批量产品制备以及满足各种非标准器件需求方面具有明显优势,应用前景广阔。
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