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芯片级化学机械抛光磨料可控制备

所属分类:电子信息产业

所属单位:甬江实验室

联系人:-

联系方式:0951-6087161 /5020588

所在地:

成果简介

突破芯片级化学机械抛光(CMP)技术,实现百公斤级超高纯CMP纳米氧化硅磨料的稳定生产,开发了系列产品,并且通过了中芯国际、华虹、积塔等多家国内主流芯片大厂28nm、55nm等多节点poly Si工艺马拉松试验测试,基于该技术孵化的企业已建成年产千吨级产线,是国内唯一一家能够供应芯片级超高纯抛光磨料的企业。

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