技术简介： 本发明涉及Ta-Mo-N复合涂层及其制备方法，Ta-Mo-N复合涂层是采用高纯Ta靶和高纯Mo靶共溅射，与真空室中Ar气和N2混合气体中的N2气反应生成Ta-Mo-N，沉积在金属、硬质合金或陶瓷的基体上形成；该…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种WBN硬质纳米结构薄膜及其制备方法，其特征在于该薄膜是利用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上，薄膜分子式为（W,B）N，厚度在1-3um。沉积时,真空度优于3.0…… 查看详细 >
技术简介： 本文发明公开了一种TaCN硬质纳米结构薄膜，其特征在是采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上的，薄膜分子式表示为Ta(C，N)，厚度在1‑3μm。沉积时，真空度优于3.0×10‑3P…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了NbVN硬质纳米薄膜及其制备方法，其特征在于薄膜分子式为（Nb,V）N，厚度为1～3μm，V含量为0～50at.%，该薄膜的摩擦系数在室温至700℃范围内随着温度的升高而降低。是利用双靶共焦…… 查看详细 >
技术简介： 本文发明公开了一种TiWN硬质纳米结构薄膜及制备方法，其特征在于是该薄膜是采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上的，薄膜分子式表示为Ti(W，N)，厚度在2-3μm。沉积时，真空度…… 查看详细 >
技术简介： 本发明涉及NbN-Ag硬质薄膜及其制备方法，其特征在于硬质薄膜分子式为NbN-Ag，厚度为1～5μm，Ag含量为0～50at.％且大于0；是以高纯Nb靶和Ag靶为靶材，利用双靶共焦射频反应法在硬质合金或陶瓷基…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种VCN硬质纳米结构薄膜及其制备方法，是在室温下，采用高纯的V靶和C靶为靶材，双靶共焦射频反应溅射法沉积在基体上得到的。沉积时，以氩气起弧，氮气为反应气体，氩氮气流量比为1…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种用于单晶生长的石英坩埚，包括内层和外层，其中，所述内层由0.5mm～2mm的二氧化硅颗粒和100nm以下的纳米二氧化硅制备而得；所述的外层由0.5mm～2mm的二氧化硅颗粒、100nm以下的…… 查看详细 >
技术简介： 摘要：一种利用无机盐胁迫萌发苦荞种子的方法，属于荞麦的精深加工技术领域。本发明提供的是一种利用三种盐，即铝盐、锌盐或铜盐之一种，胁迫萌发苦荞的条件进行优化，在所获得的优化条件下对苦…… 查看详细 >
技术简介： 摘要：本发明涉及一种虫草山药。以山药为培养基，采用冬虫夏草和蛹虫草进行双菌混合固态发酵，属于生物工程技术领域。本发明通过双菌生物转化得到的山药，具有养生保健之功效，具有良好的应用前…… 查看详细 >
技术简介： 摘要：以高粱为培养基，采用冬虫夏草和蛹虫草进行双菌混合固态发酵，属于生物工程技术领域。本发明通过双菌生物转化得到的高粱，具有养生保健之功效，具有良好的应用前景。 查看详细 >
技术简介： 摘要：以芋头为培养基，采用冬虫夏草和蛹虫草进行双菌混合固态发酵，属于生物工程技术领域。本发明通过双菌生物转化得到的芋头，具有养生保健之功效，具有良好的应用前景。 查看详细 >
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