交易价格： 面议
类型： 发明专利
技术成熟度： 正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201210114810.0
交易方式： 完全转让 许可转让 技术入股
联系人： 厦门立德软件公司
所在地：浙江厦门市
本发明涉及一种基于光学加法外差调制的新型荧光寿命显微成像装置及方法，包括荧光激发光路，参考光路以及荧光成像光路，余弦调制的高频激发光，激发荧光样品产生同频率的荧光并成像在像增强器感光面上；同时调制频率为与激发光频率相近的参考光也照射在像增强器感光面上；荧光图像和参考光在像增强器的感光面上叠加形成外差图像；最后通过锁相放大和极坐标相图分析，合成荧光样品的荧光寿命图像，本发明荧光寿命显微成像装置及方法具有荧光时间测量分辨率高，成像效率高和抗干扰能力强等优点，同时对核心部件-像增强器的技术要求放宽。
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