交易价格: 面议
类型: 发明专利
技术成熟度: 正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201410328696.0
交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股
联系人: 厦门立德软件公司
所在地:浙江厦门市
本发明涉及一种大面积数字光刻光学系统。包括照明光学系统、数字微反射镜拼接中继系统和投影光学系统,照明光学系统包括半导体激光器、聚焦透镜、光纤均束器、扩束准直透镜组、平面反射镜;数字微反射镜拼接中继系统包括数字微反射镜、三个抛物面反射镜;投影光学系统包括两个透镜组、孔径光阑,半导体激光器发出的激光经聚焦透镜入射到光纤均束器,从光纤均束器出来的光斑经扩束准直透镜组整形后的光斑到达平面反射镜,并经平面反射镜到达数字微反射镜,经数字微反射镜出来的光斑经第一、二抛物面反射镜反射至第三抛物面反射镜,经第三抛物面反射镜出来的光斑经第一透镜组及孔径光阑到达第二透镜组。本发明精度高,生产效率高,操作简便。
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