交易价格： 面议
类型： 发明专利
技术成熟度： 通过中试
专利所属地：中国
专利号：CN106637037A
交易方式： 资料待完善
联系人： 西安交通大学
所在地：陕西西安市
本发明公开了一种超低气氛下的高能高速等离子射流沉积SiC涂层及其制备方法和应用，属于材料加工、机械制造领域。该方法以SiC陶瓷粉末为原料，用高能等离子将其快速加热至分解温度以上使其分解后，在超低压气氛中又通过气相在基体表面沉积形成SiC的涂层制备方法。该方法可快速气相沉积致密的SiC涂层，以价格低廉的SiC粉体为沉积源物质，沉积源物质来源便利，低成本。本发明为优越耐磨损、耐腐蚀、抗核辐射涂层，或导电涂层制备，提供了一种超低气氛下的高能高速等离子射流沉积SiC与SiC基涂层的制备方法。
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