[00287254]基于紫外光刻技术的反射式光栅的制作方法
交易价格:
面议
类型:
发明专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201710321577.6
交易方式:
完全转让
许可转让
技术入股
联系人:
南京邮电大学
所在地:江苏南京市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明公开了一种基于紫外光刻技术的反射式光栅的制作方法,是一种高效,高精度,高分辨率的光栅制作方法,该光栅以二氧化硅为基底,在基底上设有多个平行的楔形反射式面,整个光栅表面镀银,以提高反射效果。制作过程中主要应用了倾斜光刻来制作楔形反射面,通过控制掩模板的大小和形状可以制作任意尺寸的光栅器件。由于单次生产出来的是大型的光栅,可以通过切割获得成片光栅,从而达到单片光栅的利益最大化。同时,紫外光刻法不会产生鬼线和伴线,不存在刻划光栅刻槽的微观不规则或者毛刺缺陷。即便在加工过程中出现了这些缺陷,在后面的质量检测中也可以将不合格片丢弃,保留合格的光栅出厂。