交易价格： 面议
类型： 发明专利
技术成熟度： 正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201010558170.3
交易方式： 完全转让 许可转让 技术入股
联系人： 中南大学
所在地：湖南长沙市
本发明公开了一种用于基因芯片原位合成的虚拟掩模的生成方法（专利号201010558170.3），其步骤包括：步骤1：读入表征探针阵列的数据；步骤2：寻找探针阵列的公共超序列；对探针阵列进行翻转前和翻转后两次超序列运算，将最短的一个超序列作为公共超序列；步骤3：根据公共超序列确定曝光点分布；步骤4：输出掩膜图。本发明的用于基因芯片原位合成的虚拟掩模的生成方法生成虚拟掩模的效率高、节省芯片制备成本。
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