交易价格： 面议
类型： 发明专利
技术成熟度： 正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201210111965.9
交易方式： 完全转让 许可转让 技术入股
联系人： 中南大学
所在地：湖南长沙市
本发明公开了一种探地雷达多尺度后向投影成像方法（专利号201210111965.9），步骤1：设置成像区域，设定第一尺度的成像网格，获得第一尺度的二维成像结果；尺度号i＝1；步骤2：对第i尺度下的二维成像结果进行局部极大值的提取，确定处于局部极大值的成像区域；步骤3：设定第i+1尺度的成像网格，对处于局部极大值区域的细成像网格，再次运用后向投影成像方法进行成像处理；步骤4：对非局部极大值区域的细成像网格进行成像结果的填充；步骤5：判断细成像网格是否满足设置的条件：如不满足，则使i递增1，并返回步骤2；如满足，则成像结束。该探地雷达多尺度后向投影成像方法在成像质量和精度相当的情况下，能显著提高成像效率。
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