[00263796]一种纳米多孔薄膜闭孔孔隙率的测量方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201710009866.2

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：科小易

所在地：福建厦门市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

本[发明专利]公开了一种纳米多孔薄膜闭孔孔隙率的测量方法，包括以下步骤：采集基于慢正电子束的湮没辐射能量谱；计算待测薄膜的线型参数S和W；作出该系列的待测薄膜的S‑W曲线以判断其是否为相同的闭孔结构；再根据薄膜闭孔孔隙率Vp与S参数之间的线性关系估算出待测样品的孔隙率。本[发明专利]公开的测量方法不仅能检测到闭孔孔隙率等孔结构信息，且检测过程无需将样品薄膜从衬底上剥离，避免了采用传统技术需要剥离制样使得在剥离过程中损坏了薄膜中的介孔结构，提高了测量结果的准确性和样品重复利用率。

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