[00253590]基于柱透镜聚焦的线扫描受激发射损耗显微成像装置

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201310225061.3

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：西北大学

所在地：陕西西安市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

摘要：本发明涉及一种基于柱透镜聚焦的线扫描受激发射损耗显微成像装置，由两线偏振激光光源、两矩形光阑、非连续波片、四分之一波片、两分光镜、两柱透镜、纳米平移台和线阵CCD探测器组成；第一线偏振激光光源产生的光束经第一矩形光阑和非连续波片后转换成矩形TEM01线偏振光，接着经第一分光镜反射、第二分光镜透射之后，由第一柱透镜线聚焦在固定在纳米平移台上的被测样品上作为消激发光；第二线偏振激光光源产生的光束经第二矩形光阑和四分之一波片后转换成矩形圆偏光，接着经第二分光镜反射后，由第一柱透镜线聚焦在被测样品上作为激发光；被测样品上激发的荧光依次经过第一柱透镜、第二分光镜和第一分光镜后，由第二柱透镜聚焦收集至线阵CCD探测器上。

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