[00251369]一种晶体微观结构的同步辐射可视化表征方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201610177788.2

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：西安交通大学

所在地：陕西西安市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

本发明涉及一种晶体微观结构的高普适高效同步辐射可视化表征方法，包括以下步骤步骤一获取同步辐射微区劳厄衍射实验扫描样品上每一点得到的原始图谱中的平均强度；步骤二使用归一化的手段将步骤一得到的平均强度中入射X射线强度影响消除，得到归一化后衍射图谱平均强度；步骤三根据步骤二归一化后衍射图谱平均强度绘制对于整个扫描区域中衬度与微观结构有关的图像1；步骤四对原始图谱中的异常数值进行拟合；步骤五对步骤四拟合后图谱进行阈值过滤并计算衍射图谱的平均强度；步骤六根据步骤五阈值过滤后衍射图谱平均强度绘制对于整个扫描区域中衬度与微观结构有关的图像2，从而实现晶体微观结构的高普适高效同步辐射可视化表征。

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