[00246654]一种用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置
交易价格:
面议
类型:
发明专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201110251447.2
交易方式:
完全转让
许可转让
技术入股
联系人:
四川大学
所在地:四川成都市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要:本发明公开了一种用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置,包括顶部开设有孔的半球型外壳、与半球型外壳底部连接的底板以及设置在底板上、分布在半球型外壳底部内侧的弧形光源组,在所述半球型外壳顶部开设的孔口处设置有螺套,在所述螺套上、半球型外壳内设置有可相对螺套上下移动的遮光板,在所述半球型外壳内表面均匀的喷涂有高反光率漫反射反光材料。本发明能够通过手动调节遮光板的位置,控制磁瓦端面倒角面与弧形平面的照度,一次成像即可获得清晰稳定的图像,降低了图像数据处理量,提高了实时在线处理速度。该光源装置解决了市面上现成光源难以解决的技术问题,而且生产成本较低,在同类应用场合具有推广价值,具有一定的经济性。