交易价格： 面议
类型： 发明专利
技术成熟度： 正在研发
专利所属地：中国
专利号：201410058195.5
交易方式： 完全转让 许可转让 技术入股
联系人： 武汉大学
所在地：湖北武汉市
本发明公开了一种无机晶体化合物Rb2BiI5O15及其制备方法和作为二阶非线性光学晶体材料的应用。该材料的突出特点是：首次以RbIO4、RbCl、Bi2O3和H5IO6为起始反应物，采用水热法进行制备；有较强的可相位匹配的二阶非线性光学效应；在可见光区和中红外光区有很大的透光窗口；具有较大的带隙和热稳定性；合成方法操作简单、原料利用率高、实验条件温和、产品纯度高；该晶体材料能广泛应用于光学领域。
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