交易价格： 面议
类型： 发明专利
技术成熟度： 正在研发
专利所属地：中国
专利号：200410061051.1
交易方式： 许可转让
联系人： 华中科技大学
所在地：湖北武汉市
一种脊形圆波导器件的制作方法
一种脊形圆波导器件的制作方法，属于光通信平面波导器件领域，其目的是实现波导掩埋深度和波导线宽无关、且偏振不敏感的平面光波导制作。本发明步骤为：对制作波导的基底材料整片进行离子交换，然后进行光刻和等离子体刻蚀，使设计的平面波导器件结构复制到基底材料上并形成脊形结构，再进行第二次离子交换，形成掩埋波导，且波导截面呈圆形。本发明不需要薄膜沉积，成本更低，工艺更简单；波导为同质材料，模场呈圆形轴对称结构，光学传输性能表现为偏振不敏感特性，解决了波导掩埋深度随波导线宽的改变而变化的问题，特别适用于制作阵列波导光栅(AWG)型器件，多模干涉(MMI)型器件等波导线宽不规则的器件。
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