[00111528]位相物体扫描成像方法及其处理装置

交易价格： 面议

类型： 专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN200510034208.6

交易方式： 完全转让

联系人：华南师范大学

所在地：广东广州市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

　　本发明公开了一种位相物体扫描成像方法及其处理装置，根据双点源光束干涉原理，在两极大光点附近放置平移扫描台及位相样品，利用测量干涉条纹的周期及错位量，通过对位相物体逐点扫描，而得到位相物体的位相分布。本方法的位相分辨率高，精度达到λ/50或π/25，易于实现位相物体的假彩色化，而且通过计算机的图像处理技术实现位相物体位相或光程的重构，可实现测量及显示过程的自动化。本发明的处理装置设计紧凑，调节方便，易于观察，成本较低。本方法适用于位相变化范围较大的位相物体和部分吸收或弱散射的位相物体，另外由于本方法能得到位相物体的厚度分布或折射率分布，因此也可用于薄膜厚度或折射率的定量测量。

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