技术简介: 本发明公开了一种采用原子层沉积原位制备超顺磁Fe3O4纳米管阵列的方法,属于纳米管阵列制备技术领域。包括以下步骤1)将洁净的AAO基片送入原子层沉积设备中,备用;2)将二茂铁蒸汽和氧气通入原子…… 查看详细 >
技术简介: 本文所示的实施方式总体涉及类金刚石碳的形成、类金刚石碳的形式和/或二氧化碳固定。更具体地,本发明提供了一种制造类金刚石碳的方法,该方法可以包括提供一定体积的包含二氧化碳的气体,并对…… 查看详细 >
技术简介: 本发明涉及一种超声喷雾热分解化合物半导体薄膜制备系统,用于在平面基质上制备氧化物和硫化物半导体薄膜。该系统由雾化、沉积两大部分构成。其中雾化部分有载气源、储液罐、雾化室和相应电路构…… 查看详细 >
技术简介: 本发明公开了一种制备多晶钙钛矿薄膜的方法及太阳能电池器件,该方法将聚合物和盐的混合水溶液在基底上湿法成膜,然后与金属卤化物蒸汽相互作用后热处理,获得平整致密的多晶钙钛矿薄膜。本发明…… 查看详细 >
技术简介: 本发明公开了一种在Cu薄膜体系中生成Cu三角晶体的方法,首先在具有晶向的基底上沉积Cu薄膜;随后在Cu薄膜上沉积一层还原性较强的其他材料的薄膜,用以防止Cu薄膜在高温下被氧化;然后采用热处理…… 查看详细 >
技术简介: 本发明公开了一种掺金属的类金刚石涂层的方法,将预处理后的工件放入ISE‑MS镀膜设备真空室中的转架杆上,以安置在炉体左右内壁上的一对平面金属溅射靶作为相应掺金属的来源,通过调整中频脉冲…… 查看详细 >
技术简介: 本发明公开一种螺纹连接套管的抗粘扣组合涂层及其制备方法,包括外螺纹表面的类金刚石涂层的制备和内螺纹表面的铜涂层制备;外螺纹表面采用离子束辅助磁控溅射涂覆DLC涂层,该涂层具有耐磨损、…… 查看详细 >
技术简介: 本发明公开了一种控制金属纳米Cu/Ru多层膜相结构的方法,该方法是在磁控溅射镀膜过程中,采用慢速率沉积工艺,通过控制铜层和钌层的单层厚度,并通过溅射过程转速、偏压参数的调整,使多层膜的…… 查看详细 >
技术简介: 本发明公开了一种通过磁控溅射技术制备不同晶粒尺寸金属纳米多层膜的方法。本发明的Cu/Ta纳米多层膜由Cu层和Ta层交替组成,两层厚度之比为1∶1,调制波长为5-140nm,总厚度为1μm。其中Cu层晶粒…… 查看详细 >
技术简介: 本发明公开了一种同质多层纳米金属薄膜材料的制备方法。该材料的特征是:薄膜完全由同种单一元素构成,并呈现粗晶层和细晶层交替更迭的多层结构。该方法采用磁控溅射技术,将连续沉积和间歇沉积…… 查看详细 >
技术简介: 本发明涉及电子回旋共振(ECR)等离子体溅射装置,公开了一种能够方便转换粒子源的ECR等离子体溅射装置的腔体结构。它包括:左真空腔(1)、右真空腔(2)和至少两个靶材腔(3、4),靶材腔(3、4)连接在…… 查看详细 >
技术简介: 本发明公开了一种离子源增强电弧离子镀制备高温合金切削刀具涂层的方法,将高温合金切削刀具预处理后放入离子源增强电弧离子镀膜设备的真空室中的转架杆上,以矩形电弧Ti靶作为底层的Ti来源,通…… 查看详细 >
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