技术简介： 本发明公开了一种电引发化学镀的加成法制造印刷电路板的方法，该方法包括如下步骤：在非导电基材上以各种印制方式形成导电材料组成的电路图形；将制备的电路图形浸入化学镀液中；化学镀液中放入…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种在聚酯膜上进行无钯化学镀铜的方法，本发明方法是先对聚酯膜进行除油处理，再通过接枝法使聚酯膜表面光接枝丙烯酸，从而改善其表面亲水性和活性，之后通过浸泡氨水和硝酸银溶液…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种碳纳米管镀银丙烯酸系电磁屏蔽涂料的制备方法，本发明采用化学镀的方法，首先在CNTs表面镀上一层镍，再进行化学镀银，从而获得以大长径比的CNTs为核，以均匀银镀层为壳的镀银CN…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种复合导电填料--镀银Fe3O4粉及其制备方法，本发明采用化学镀的方法，首先，将Fe3O4粉加至银氨溶液中，另加入乙醇，将混合溶液加热至反应温度并进行超声分散；再加入还原剂进行化…… 查看详细 >
技术简介： 本发明提供了一种高粘度胶液喷射点胶质量提升方法将阀座的喷嘴腔和阀体的内壁进行清洗；在喷嘴腔内壁和阀体的内壁镀含铜微米层；在含铜微纳米层上进行电化学镀，得到硫化铜纳米层；将硫化铜纳米…… 查看详细 >
技术简介： 本实用新型公开一种点胶装置，包括通过驱动装置带动往复运动的阀杆，阀杆伸入阀体内、并通过阀体限位滑动；阀体的端部可拆卸设置阀座，阀座开设用于喷射胶液喷射嘴，阀体的侧壁上设置通过供胶装…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种TiB2/AlTiN复合涂层，所述TiB2/AlTiN复合涂层是以TiB2陶瓷靶和AlTi溅射靶为原料，通过多靶磁控溅射在基体上交替溅射沉积形成多层结构的TiB2/AlTiN复合涂层。所述TiB2/AlTiN复合…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种超强韧碳基表面防护涂层，该涂层是由碳元素、碳化物形成金属元素、弱碳化物形成金属元素组成，涂层中，碳元素以无定形形式存在，形成碳无定形网络，碳化物形成金属元素与碳结合…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种具有纳米层状结构的二硼化钛/钨涂层及其制备方法，所述TiB2/W涂层是以TiB2陶瓷靶和喷涂W靶为原料，通过多靶磁控溅射在基体上交替溅射沉积形成由TiB2陶瓷层与金属W层相互叠加的…… 查看详细 >
技术简介： 本发明涉及薄膜材料技术领域，尤其涉及一种高功率脉冲等离子体增强复合磁控溅射沉积装置，包括真空室、磁控靶、工件架和旋转支座，磁控靶包括高功率脉冲磁控溅射靶和脉冲直流磁控靶，固定在真空…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种多层纳米复合刀具涂层及其制备方法，在刀具基体表面采用物理气相沉积技术先涂覆一层氮化钛过渡层，然后再交替周期性涂镀多层铝钛硅氮化物涂层和铝铬氮涂层；其中氮化钛过渡层的…… 查看详细 >
技术简介： 本发明涉及薄膜材料技术领域，尤其涉及一种用于刀具涂层沉积的多功能全自动离子镀膜机，包括真空室、双极脉冲磁控溅射靶、矩形的阳极层气体离子源、高功率脉冲磁控溅射源、偏压电源、阴极电弧源…… 查看详细 >
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