交易价格： 面议
类型： 非专利
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采用连续式磁控溅射技术即立式溅射方式,直流磁控溅射工艺沉积半导电膜, 入射到衬底上的溅射原子便直接吸附在薄膜上,并通过联并作用而形成不同结构的薄膜,该技术达到基板在低于100℃温度下沉积导电薄膜,增加了透光度, 色彩还原度高,更鲜艳、饱和、自然, 增强屏幕的显示效果。 该产品已成功导入产业化,目前产品良率达到98.5%以上,可用于显示器件保护屏,如LCD电视、PDP电视、手提电脑、台式电脑显示屏、高档仪表面板、触摸屏、等提高透射率降低反射率及图象要求较高的电子产品。
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