[00325906]二维有序胶体晶体高效制备技术
交易价格：
面议
类型：
非专利
交易方式：
资料待完善
联系人：
中国科学院半导体研究所
所在地：北京北京市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
一、项目简介 低成本微纳米加工技术的研究是各国争相发展的方向之一。纳米球刻蚀（Nanospherelithography,NSL）利用尺寸分布窄的纳米胶体球，如聚苯乙烯微球，通过自组装手段形成高度有序的二维结构作为掩模来实现超微细图形的转移。利用纳米球刻蚀技术可以开发出具有特定功能的微纳米结构材料，如减反射光学表面，二维光子晶体，二维量子点阵列，功能生物界面等。在规模化的民用领域，如增强LED的出光效率、太阳能电池表面减反方面，这一技术的优势尤其突出。 纳米球刻蚀技术的核心是制备二维有序胶体晶体，产业化应用的关键在于高效地制备大面积二维有序胶体晶体。在各种制备方法中，气-液界面自组装技术在获得大面积，确保无叠层缺陷这方面具有非常显著的优势。 本技术将有助于控制胶体粒子的自组装过程，研究二维有序胶体晶体形成的物理机制，改善二维胶体晶体的质量，获得大面积、高质量的二维有序胶体晶体。将纳米球刻蚀技术应用于固态照明和太阳能等再生能源领域，可低成本地在发光二极管（LED）和多晶硅太阳能电池中引入纳米结构，更好地提高发光效率和光吸收效率。并且二维胶体体系可以作为模型体系来进行二维材料的熔化、结晶等基础研究。 二、技术特点 当前研发装置可以实现纳米球尺寸从100nm-2000nm范围纳米球制备，尺寸可以实现6英寸以上。利用制备的纳米PS球进行聚焦曝光，获得了尺寸可控的纳米周期图形，并成功应用在提高LED效率上，目前已经开展的工作包括光子晶体、金属等离激元、纳米图形衬底以及纳米柱LED等多个方面，这些研究为纳米球刻蚀技术产业化应用奠定前期基础。 三、专利情况 授权发明专利3项。 四、市场分析及应用情况 我们研制的用于纳米球刻蚀的大面积二维有序胶体晶体的高效制备装置，目前在国内外尚无同类型商用装置，本装置将有助于控制胶体粒子的自组装过程，研究二维有序胶体晶体形成的物理机制，改善二维胶体晶体的质量，获得大面积、高质量的二维有序胶体晶体。将纳米球刻蚀技术应用于固态照明和太阳能等再生能源领域，低成本地在发光二极管（LED）和多晶硅太阳能电池中引入纳米结构，具有广泛的市场应用前景。 五、合作方式技术开发。
微信公众号
