[00306879]WAlN硬质纳米结构薄膜及制备方法
交易价格:
面议
类型:
发明专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201410211117.4
交易方式:
完全转让
许可转让
技术入股
联系人:
江苏科技大学
所在地:江苏镇江市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本文发明公开了一种WAlN硬质纳米结构薄膜及其制备方法,其特征在于是该薄膜厚度1-3um,含有W、Al、N元素,其中W含量为60at.%-100at.%且不等于100at.%,Al含量为0at.%-40at.%且不等于0,N元素以CrN过渡层的形式存在。是以高纯W靶和Al靶为靶材,采用双靶共焦射频反应法在硬质合金或陶瓷基体上沉积获得,沉积时,真空度优于3.0×10-3Pa,以氩气起弧,氮气为反应气体,氩氮流量比10:(6-15),溅射气压0.3Pa。该方法生产效率高,所得薄膜兼具高硬度和优异的摩擦性能,可作为高速、干式切削的纳米结构硬质薄膜。