[00298140]一种利用共混聚合物相分离制备纳米结构的方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201610211924.5

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：南京大学

所在地：江苏南京市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

本发明公开了一种利用共混聚合物相分离制备纳米结构的方法，具体的制备步骤如下：a)将聚苯乙烯和含硅的紫外光固化胶以一定比例溶解在甲苯中，待充分溶解形成共混相分离溶液；b)将共混相分离溶液以一定转速旋涂在衬底表面，发生相分离，得到共混薄膜；c)对共混薄膜进行紫外光固化处理，曝光时间为5‑10分钟；d)利用反应离子刻蚀技术，用O₂等离子体在一定流量和一定功率下刻蚀除去共混薄膜中的聚苯乙烯，留下含硅的紫外光固化胶相，即可得到纳米结构。本发明的方法具有操作简单、容易实现以及成本低等优点，其制备的薄膜可以应用在纳米压印模板、表面增强拉曼散射衬底以及减反材料等方面，应用前景广阔。

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