[00297820]一种中空结构的硼酸基氧化锡印迹复合纳米微球、其制备方法及其应用

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201710455041.3

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：江苏科技大学

所在地：江苏镇江市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

本发明提供了一种中空结构的硼酸基氧化锡印迹复合纳米微球、其制备方法及其应用。是以乙烯基改性的中空氧化锡微球为基质材料，目标印迹分子木犀草素(LTL)为模板，以甲基丙烯酸(MAA)和4‑乙烯基苯硼酸(4‑VBA)为功能单体，在交联剂、引发剂作用下进行印迹聚合，得到中空氧化锡内外表面印迹的分子印迹聚合物。中空硼酸基氧化锡纳米复合材料直径100‑300nm，壁厚5‑20nm，复合微球内外表面具有丰富的硼酸基团，增加了吸附材料的比表面积，提高了吸附提取效率，且该吸附材料粒径均匀，分散良好。

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