[00288234]一种MOSFET结构
交易价格:
面议
类型:
发明专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201710325286.4
交易方式:
完全转让
许可转让
技术入股
联系人:
南京邮电大学
所在地:江苏南京市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明公开了一种MOSFET结构,属于半导体器件技术领域,包括衬底电极、衬底、沟道区、源区、漏区、源极、漏极、栅氧层和栅极,所述衬底内置的衬底区域形成表面为非平面的沟道区,且沟道区的两侧分别设置源区和漏区;所述源极和漏极分别对应设置于源区和漏区上;所述栅氧层覆盖于非平面沟道区的表面;所述栅极设置于栅氧层表面,及栅极的两端与源极和漏极均存在间隔,并且栅极的两端分别延伸于源区和漏区形成重叠。本发明采用非平面沟道MOSFET结构,可以降低漏区的电场峰值,并增加器件有效沟道长度,改善和抑制漏致势垒降低效应,抑制短沟道效应,且降低漏区的高电场,抑制热载流子的生成,提高器件稳定性。