[00288201]一种激光还原制备多孔石墨烯的方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201610498703.0

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：南京邮电大学

所在地：江苏南京市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

本发明涉及一种激光还原制备多孔石墨烯的方法，属于石墨烯超电容材料技术领域。本发明技术方案包括：在氧化石墨烯的溶液中加不同比例的双氧水，然后在基板上涂抹一层较薄的氧化石墨烯层，等待完全风干之后，形成氧化石墨烯薄膜，用激光逐点扫描按照设定的图案还原氧化石墨烯薄膜，即得到不同图案的具有超电容性能的多孔石墨烯。本发明打破了传统制备多孔石墨烯的水热等方法，同时结合了数字化制备技术，推动了石墨烯在电路板领域的应用发展。

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