[00284862]一种低共熔溶剂电沉积铬锰合金镀层的方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201610975321.2

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：昆明理工大学

所在地：云南昆明市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

本发明涉及一种低共熔溶剂电沉积铬锰合金镀层的方法，属于表面工程和表面处理技术领域。在惰气环境下，首先将季铵盐与多元醇混合均匀后形成低共熔溶剂，然后向低共熔溶剂中加入三氧化二铬和一氧化锰，制备得到低共熔溶剂电解液；以石墨为阳极，预处理后的基体为阴极，在控制电解液温度为35~75℃、槽电压为1.8~2.8V、阳极与阴极距离为0.6~2.4cm的条件下，在制备得到的低共熔溶剂电解液中电沉积0.5~5h，将电积后的阴极基体经丙酮、蒸馏水冲洗，干燥后即能在阴极基体上得到铬锰合金镀层。采用该方法可制备得到的铬锰合金镀层光亮致密平整，与基体结合能力强，耐磨性及耐腐蚀性优异，避免了六价铬及镀液的危害，环境友好。

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