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[00284689]一种去除冶金级硅中杂质的方法

交易价格: 面议

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201610706125.5

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 昆明理工大学

所在地:云南昆明市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

本发明涉及一种去除冶金级硅中杂质的方法,属于硅提纯技术领域。首先将少量的添加剂(锆、铪、含锆合金或含铪合金)和工业硅同时进行熔炼,待物料完全熔化后冷却至室温,并研磨成小于186μm的硅粉,先后用王水、HF+HCl混酸进行酸洗得到高纯硅。本发明不仅能有效去除硅提纯领域中最难去除的硼杂质,对其他杂质的去除也有明显的效果。

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