[00284367]一种低共熔溶剂电沉积亮铬镀层的方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201610267769.9

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：昆明理工大学

所在地：云南昆明市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

本发明涉及一种低共熔溶剂电沉积亮铬镀层的方法，涉及表面工程和表面处理技术。在惰气环境下，首先在电解槽中加入低共熔溶剂，然后向低共熔溶剂中加入氧化铬，制备得到低共熔溶剂电解液；以石墨为阳极，预处理后的基体为阴极，在上述步骤制备得到的低共熔溶剂电解液中电沉积，将电积后的基体经丙酮、蒸馏水冲洗，干燥后即可在基体上得到一层亮铬镀层。本发明制得的亮铬镀层光亮致密平整，与基体结合能力强，耐磨性及耐腐蚀性优异。

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