交易价格： 面议
类型： 发明专利
技术成熟度： 正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201310168592.3
交易方式： 完全转让 许可转让 技术入股
联系人： 中南大学
所在地：湖南长沙市
本发明公开了芘及其衍生物作为生物芯片制备中光敏基团脱保护增敏试剂的应用（专利号201310168592.3）。利用荧光的再次增强，实现了对光敏基团的三次脱保护（第一次是原始紫外光，第二次是能量传递，第三次是产生的荧光），加速了光敏基团的脱保护速率。同时，也因为利用荧光化合物的发荧光的性能，有效避免一般光敏试剂（如ITX系列）引起的裂解自由基的破坏作用，提高光敏基团脱保护的质量。
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