交易价格： 面议
类型： 发明专利
技术成熟度： 正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201110458080.1
交易方式： 完全转让 许可转让 技术入股
联系人： 中南大学
所在地：湖南长沙市
本发明公开了一种基于二维邻域合成孔径聚焦的超声C扫描成像方法（专利号201110458080.1），包括探头声束扩散角的可视化、建立聚焦处理点邻域的数学模型、采集超声A波信号、合成聚焦处理超声A波信号、对缺陷进行超声C扫描成像五个步骤，本发明的技术效果在于，通过以目标点为中心的二维邻域进行聚焦，同时考虑探头的晶片直径、近场长度、声束扩散角来决定合成孔径聚焦处理点的邻域，使扫描结果相比现有的SAFT方法更加精确，有效地抑制声束扩散角对超声无损检测的不利影响，从而提高了超声C扫描成像的精度。
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