[00269830]非制冷红外焦平面阵列用氧化钒薄膜材料的制备方法
交易价格：
面议
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201010143049.4
交易方式：
完全转让
许可转让
技术入股
联系人：
四川钒钛产业技术研究院
所在地：四川攀枝花市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明公开了一种非制冷红外焦平面阵列用氧化钒薄膜材料的制备方法，首先将圆晶片台与溅射靶材一、溅射靶材二的靶面偏心对准，打开真空室，把晶片放置于圆晶片台上；然后关闭真空室，按次序启动机械真空泵和低温真空泵，抽真空至10 -8 Torr；打开氩气流量计和氧气流量计，用气体调节真空室内部压强10 -2 -10 -3 Torr；启动旋转电机，使其以转速为200～500rpm工作；启动交流磁控溅射电源，设置其频率为10～50kHz，电压幅值为200～600V工作；持续工作溅射靶材一、二为10～20min，停止旋转电机，关闭交流磁控溅射电源；再次打开氩气流量计充入氩气Ar，控制真空室内的压强至1个大气压；打开真空室，取出晶片即能得到方块电阻在20～50kΩ/m 2 的薄膜。本发明能够在晶片上溅射生成均匀的、大面积薄膜。
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