[00266102]纳米聚焦X射线组合透镜的制作方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN200810059020.0

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：浙江工业大学

所在地：浙江杭州市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

纳米聚焦X射线组合透镜的制作方法，包括步骤如下：(A)用电子束刻蚀技术制作玻璃基底金属铬材料的光刻掩模版；(B)对硅衬底进行常规清洁处理；(C)在经步骤(B)处理的硅衬底表面自旋涂覆一层厚度为1－3微米的普通紫外负性光刻胶；(D)使用步骤(A)制成的光刻掩模版；(E)在光刻胶图形结构上生长一层厚度为100－250纳米的铝金属薄膜；(F)去除光刻胶膜，形成与步骤(A)制成的光刻掩模版图形结构相同的铝材料图形结构；(G)进行深度硅材料刻蚀，制成硅材料一维纳米聚焦X射线组合透镜。

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