[00257282]一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔

交易价格： 面议

类型： 实用新型专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201120352723.X

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：科小易

所在地：福建厦门市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔，包括腔体，所述腔体上开有进出片口、机械泵接口、下电极接口、分子泵接口，所述腔体的上端安装有顶盖和石英盖，所述腔体内安装有匀气盘、穿过腔体底部和匀气盘的工艺气体管道，所述工艺气体管道的气体出口设置在匀气盘上方并正对匀气盘中心；所述匀气盘的中间开有大于下电极直径的下电极通口，所述匀气盘上开有多个通气孔，横向上相邻所述通气孔的间距是等差数列递增，纵向上相邻所述通气孔的间距从中心到边缘是等差数列递减。本实用新型的有益效果：等离子体密度最大、均匀性最好、能量最高；成本低、可靠性高。

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