[00253149]基于双网格的有限投影的荧光分子断层成像重建方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201510787814.9

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：西北大学

所在地：陕西西安市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

摘要：本发明公开了一种基于双网格策略的有限投影角度的荧光分子断层成像重建方法，其实现步骤如下：（1）获取测量数据；（2）粗网格重建，并为细网格重建提供荧光目标的可行区域；（3）可行区域下的细网格重建，实现荧光目标的三维分布。本发明基于光传输理论与有限元方法，利用了光学特性参数和解剖结构等先验信息，采用单点激发，有限角度测量，利用双网格策略，将粗网格的重建结果为细网格重建提供荧光目标可行区域，由此降低了问题的病态性，有效提高了荧光分子断层成像的重建结果，在光学断层三维重建算法等领域有重要的应用价值。

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