[00252949]面曝光3D打印约束基板防粘附增透功能膜及其制备方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201610459297.7

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：西安理工大学

所在地：陕西西安市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

摘要：本发明公开了一种面曝光3D打印约束基板防粘附增透功能膜，包括刻蚀在石英基板表面的纳米结构层，及沉积在纳米结构层表面的低表面能修饰层。本发明还公开了其制备方法：通过浸渍提拉法在石英基板表面单层密排二氧化硅小球；以单层密排二氧化硅小球为掩蔽膜，通过干法刻蚀制备到石英基板表面，得到纳米结构层；在对其进行低表面能处理得到。本发明防粘附增透功能膜，通过表面刻蚀纳米结构层，并在纳米结构层表面沉积低表面能修饰层，使其表面具有疏水/疏油特性，树脂不能填充纳米结构间隙，因而固化树脂与槽底表面只有部分接触，由于固化层与基底表面的接触面积显著减小，因而固化层与基底间的粘附力显著减小。

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