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[00252746]一种产生均匀、稳定射流等离子体的装置

交易价格: 面议

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201610972251.5

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 西安交通大学

所在地:陕西西安市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

本发明公开了一种产生均匀、稳定射流等离子体的装置。所述装置包括高压电极、地电极、气室、通气管,所述高压电极置于所述通气管内,地电极设置于通气管的外表面;工作时,高压电极和地电极之间施加有高压,形成等离子体放电区域;给料气体由气室通过通气管到达上述等离子体放电区域,并将产生的等离子体以射流的形式作用到被处理物。所述装置还可包括流量控制器对给料气体的成分和流速进行控制,并可在高压电极尖端设置绝缘层;能够产生稳定、均匀、活性粒子强度较高的射流等离子体,并降低放电电压、提高安全性,更加适用于生物医学、材料表面处理、环境保护等多个应用领域。

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