[00250676]一种双槽电解制备纳米晶/非晶金属多层薄膜增塑的方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201610423847.X

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：西安交通大学

所在地：陕西西安市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

本发明公开了一种双镀槽电解制备纳米晶/非晶金属多层薄膜增塑的方法。通过双槽法制备技术，在两电镀液中交替沉积出了结构完整的纳米晶/非晶多层膜，该薄膜层结构明晰，且调至尺寸可控。相比于同等厚度的纯纳米晶Ni膜，多层薄膜在断前能承担更大的断裂应力且具有更大的塑性变形量。本发明充分结合了纳米晶金属和非晶态金属的塑性变形特点，利用双槽法电镀制备出纳米晶/非晶多层结构薄膜，实现了对纯纳米晶金属薄膜塑性变形能力的提高。并且调制尺寸可调，力学性能可控。制备方法操作简单，成本低，而且沉积速率快，可在大面积和较复杂的零件上沉积，极易实现工业生产上的规模化。

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