[00250470]一种地塞米松磁性分子印迹聚合物的制备方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201710063442.4

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：西安交通大学

所在地：陕西西安市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

本发明提供一种地塞米松磁性分子印迹聚合物的制备方法制备磁性纳米微球；包覆二氧化硅层；硅烷化改性；表面RAFT功能化处理；模板分子地塞米松与功能单体预组装后加入RAFT功能化磁性纳米微球、交联剂和引发剂进行聚合；除去结合于分子印迹聚合物上的模板分子，得到地塞米松磁性分子印迹聚合物。本发明通过表面RAFT活性自由基聚合反应制备地塞米松磁性分子印迹聚合物，分子印迹层均匀，印迹物分子量分布窄，对地塞米松具有较高的选择性；可以实现快速磁性分离；对地塞米松吸附量大，吸附平衡时间短，解吸方便，吸附性能稳定，可应用于中药制剂、保健品和化妆品中地塞米松的样品前处理吸附介质。

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