[00246477]PVD氧化物涂层制备方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201710305307.6

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：四川大学

所在地：四川成都市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

摘要：本发明公开了一种PVD氧化物涂层制备方法，尤其是一种涉及氧化物涂层制备领域的氧化物涂层制备方法。本发明提供一种沉积率高，所制得的涂层绝缘效果好的氧化物涂层制备方法。本发明的氧化物涂层制备方法，在采用阴极电弧离子镀进行离子沉积的同时利用复合磁场CAE增加弧斑密度、提高弧斑移动速度、增加弧斑径向移动幅度；利用复合磁场CAE脉冲控制技术或双极脉冲偏压技术消除绝缘体正电荷积聚产生的电场；利用复合磁场CAE将镀膜材料的离子推进到带镀膜工件附近进行反应；通过复合磁场CAE控制离子的输出能量和的沉积温度来控制绝缘氧化物涂层生长，采用本申请的方法可以制得沉积率高，绝缘性能优异的氧化物薄膜。

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