[00245286]一种光通过散射介质聚焦的单元裂解调制方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201611138000.3

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：四川大学

所在地：四川成都市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

本发明公开了一种光通过散射介质聚焦的单元裂解调制方法，涉及生物成像领域。本发明技术要点包括最佳相位寻找的步骤、四元裂解方法调制步骤。其中，最佳相位寻找的步骤为在空间光调制器上进行0~2π的相位变化，对入射平面波进行相位调制，用CCD接收相应的散斑图，计算聚焦处的光强大小，并进行比较，保存最大光强对应的相位值；四元裂解方法调制步骤包括每一个单元寻找其使得输出聚焦处强度最大的相位（最优相位），然后将这些单元顺序等分成四份，每个小单元在继承之前的优化相位的同时继续寻找更优的相位分布，依此类推，可将单元细分、优化到更小的单元，甚至空间光调制器的像素。

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