[00239650]一种基于氧化钒薄膜的阻变存储器及其制备方法
交易价格:
面议
类型:
发明专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201010593296.4
交易方式:
完全转让
许可转让
技术入股
联系人:
四川钒钛产业技术研究院
所在地:四川攀枝花市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
一种基于氧化钒薄膜的阻变存储器,其器件单元由底电极、阻变存储层和顶电极构成,器件单元为三明治结构,阻变存储层位于底电极和顶电极之间,阻变存储层采用氧化钒薄膜,氧化钒成分为VO x ,其中0.5<X<2.5,氧化钒薄膜的厚度为(20-500)纳米;所述底电极为Pt、W、Ti、TiN、Cu或导电金刚石,所述顶电极采用电接触较好的Cu、Ag或Al。本发明的优点是:通过本发明能够制备出性能良好的以五氧化二钒为基础的氧化钒混合相多晶薄膜,且通过退火处理,可以降低基于氧化钒的阻变存储器的Forming电压,得到低的Set、Reset电压,从而可以降低器件的功耗。