[00239645]一种基于掺杂氧化钒薄膜的阻变存储器及其制备方法
交易价格:
面议
类型:
发明专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201010593299.8
交易方式:
完全转让
许可转让
技术入股
联系人:
四川钒钛产业技术研究院
所在地:四川攀枝花市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
一种基于掺杂氧化钒薄膜的阻变存储器,包括底电极、顶电极和电阻转变层,电阻转变层为掺杂氧化钒薄膜,掺杂氧化钒薄膜位于底电极和顶电极之间,掺杂氧化钒薄膜包括第一层氧化钒薄膜、掺杂金属薄膜和第二层氧化钒薄膜,掺杂金属薄膜设置于第一层氧化钒薄膜和第二层氧化钒薄膜之间形成三明治结构。本发明的优点是:通过本发明能够制备出性能良好的以五氧化二钒为基础的氧化钒混合相多晶薄膜。通过掺杂金属薄膜,使得氧化钒阻变材料在施加电压的情况下薄膜中以金属离子运动组合的方式形成导电通道,大幅提升电阻转变的稳定性,并且消除了Forming过程。