[00236767]一种脉冲反应磁控溅射制备氧化钒薄膜的方法

交易价格： 面议

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201310253288.9

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：四川钒钛产业技术研究院

所在地：四川攀枝花市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

本发明涉及一种脉冲反应磁控溅射制备氧化钒薄膜的方法，属于氧化钒薄膜制备技术。包括①玻璃和覆盖氧化硅层的硅片表面清洗；②采用脉冲反应磁控溅射制备氧化钒薄膜：预抽真空度＜1×10 -4 Pa，氩氧气氛中氩气与氧气的流量比为100:2.5～3.5，在脉冲直流电源脉冲频率为100～350KHz、占空比为100%～55%、溅射功率为150～250W条件下，溅射15～30分钟溅射成膜。本发明的优点在于溅射过程中不需要对氧气流量精确控制，只需调节脉冲直流电源占空比就可以制备出高金属含量到高氧含量的氧化钒薄膜，工艺可控性好，且可重复性好。本方法制备的氧化钒薄膜可以作为目前非制冷红外热成像器件等应用要求的理想热敏感材料。

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