[00229982]磁控溅射设备

交易价格： 面议

类型： 实用新型专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201220261265.3

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：中国科学院深圳先进技术研究院

所在地：广东深圳市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

登录后向技术服务商咨询

咨询平台客服试试在线客服吧发布技术需求服务免费

技术详细介绍

一种磁控溅射设备，包括壳体、靶材、炉盘及多个挡板；所述壳体开设有反应腔；所述靶材收容于反应腔内并固定于所述壳体的内壁上；所述炉盘收容于反应腔内，所述炉盘固定于所述壳体的内壁并与所述靶材相对；所述多个挡板设置于所述壳体的内壁上，分布于所述炉盘的周围。上述磁控溅射设备中，其反应腔内壁上设有挡板。挡板用来阻挡射向反应腔内壁的溅射粒子，并对溅射粒子进行沉积，防止其形成碎渣并掉落，影响反应腔内制备的薄膜的质量。

成果推荐需求推荐评估专家推荐评估机构推荐

更多>

上海平正评估有限公司

服务分类：资产评估、无形资产评...

进入主页
连城资产评估有限公司

服务分类：资产评估、无形资产评...

进入主页

更多>