交易价格： 面议
类型： 非专利
技术成熟度： 正在研发
交易方式： 完全转让 许可转让 技术入股
联系人： 江苏科技大学
所在地：江苏镇江市
一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂
本发明公开了一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂，由聚乙烯醇衍生物为20～40%，辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯为30～50%，OP为1～3%，十二烷基硫基乙酸钠为15～30%，水为2～10%组成。本发明制备工艺简单，成本低；用于单晶硅、多晶硅表面污斑的清洗，操作方便，去污快，效果好，同时还具有防止单晶硅、多晶硅表面形成污斑的功效。
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