X为了获得更好的用户体验,请使用火狐、谷歌、360浏览器极速模式或IE8及以上版本的浏览器
欢迎来到宁夏技术市场,请 登录 | 注册
尊敬的 , 欢迎光临!  [会员中心]  [退出登录]
 常见问题  关于我们
成果
成果 专家 院校 需求
微信公众号
当前位置: 首页 >  科技成果  > 详细页

[00209296]GaN肖特基功率二极管的漏电流抑制技术研究

交易价格: 面议

类型: 非专利

技术成熟度: 正在研发

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 南京大学

所在地:江苏南京市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
分享
|
收藏
|

技术详细介绍

  以氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)为代表的宽禁带半导体材料具有大禁带宽度、强击穿电场、高电子饱和漂移速度和良好化学稳定性等一系列材料性能优势,是研制新型功率半导体器件的热门材料。SiC肖特基功率二极管在美国已经实现产业化,但受到SiC衬底技术垄断等因素的限制,SiC肖特基功率二极管的价格非常昂贵,无法实现大范围推广。相比之下,GaN技术没有材料来源上的限制;而且,由于GaN材料普遍被生长在便宜的蓝宝石衬底上,高性能GaN功率器件有望实现低成本制备,利于向广阔的民用市场推广。基于以上原因,GaN基功率器件是当今世界范围内的研究和开发热点。

  江苏省光电信息功能材料重点实验室近年来集中开展了GaN肖特基功率二极管的研制,并已取得了阶段性的进展;实现了具有低漏电流的小功率GaN肖特基二极管,目前正在推进GaN肖特基功率二极管的实用化进程。

Copyright © 2018    宁夏回族自治区生产力促进中心    版权所有    宁ICP备11000235号-3    宁公网安备 64010402000776号

网站访问量:               网站在线人数:0              技术支持:科易网