交易价格： 面议
类型： 发明专利
技术成熟度： 正在研发
专利所属地：中国
专利号：201210541828.9
交易方式： 完全转让 许可转让 技术入股
联系人： 太原理工大学
所在地：山西太原市
一种Li掺杂生长p型透明导电Ni1-xMgxO晶体薄膜的方法（专利号201210541828.9），是采用脉冲激光沉积法，将NiO、MgO和Li2CO3粉末球磨混合后，压型并高温烧结，制得掺Li的Ni1-xMgxO陶瓷靶材；再将陶瓷靶材与衬底置入脉冲激光沉积装置，调整靶材与衬底间距，在适当的衬底温度、氧气压强和激光频率下进行生长，后冷却至室温，获得Li掺杂Ni1-xMgxO晶体薄膜。本发明方法所制备的晶体薄膜呈p型电导，具有低电阻率、高透射率、高载流子迁移率和带隙连续可调等优良特性；而且方法简单，实现了实时掺杂，掺杂浓度通过调节生长温度和靶材中Li和Mg的含量来控制，得到的薄膜在透明电子和光电子器件等领域具有广泛的应用前景。
Copyright © 2018 宁夏回族自治区生产力促进中心 版权所有 宁ICP备11000235号-3 宁公网安备 64010402000776号
网站访问量： 网站在线人数：0 技术支持：科易网 
微信公众号
