交易价格： 5 万元
类型： 发明专利
技术成熟度： 正在研发
专利所属地：中国
专利号：ZL201110377643.4
交易方式： 5年独占许可转让
联系人： 天津科技大学
所在地：天津天津市
本发明提供了一种亚波长金属-介质光栅反射偏振光变膜及制作方法，该亚波长金属-介质光栅反射偏振光变膜包括介质基底层、金属层、光栅层，透明介质层、半透明金属层、透明保护层，所述光栅层为金属材料和介质材料构成的亚波长金属-介质光栅，所述的金属材料和介质材料间隔排列。该光变膜有特殊的反射偏振光变性能，可用于装饰、防伪等领域。在制作工艺上，用纳米压印(或模压)与镀(或涂布)相结合的技术加工，制作过程简便易操作，可以批量生产。制作的光变膜内含有同参数的正弦金属-介质光栅，而光变膜的设计却基于矩形金属-介质光栅结构，它们有相似的颜色特征。
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