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[00157914]一种逆构电极的电流变均匀抛光方法与装置

交易价格: 面议

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:ZL201110116943.7

交易方式: 完全转让

联系人: 浙江高校产学研联盟中心——海宁中心

所在地:浙江金华市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

  本发明涉及一种逆构电极的电流变均匀抛光方法与装置,属于光整加工领域。包括获得平面面型信息,确定刀位位置及抛光间隙,在工件表面注入电流变液,由压力分布反求电场分布,由电场强度分布,调用数据库,模糊判别,获得与之近似之电极电压分布模型;由所得模型,控制各驱动电源输出,控制电致伸缩材料使各电极移动至预定位置,控制各高压电源输出,使各电极加载所需电压,抛光作业。本发明利用电流变液的流变特性,构造各点硬度不均匀的柔性抛光头,配合抛光速度,得到均匀的抛光去除率,以刀具的硬度改变适应面型的变化。

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